101. Challenges in plasma etching for Nanoelectronics applications
- Author
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Joubert, O., Helot, M., Kogelschatz, M., Le Gouil, A., Possémé, N., Pargon, E., Chevolleau, T., Cunge, G., Pelissier, B., Vallier, L., Sadeghi, N., Foucher, J., Vizioz, C., Heitzmann, M., Mangiagalli, P., Clot, Marielle, Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Laboratoire de Spectrométrie Physique (LSP), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), and Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
- Subjects
ComputingMilieux_MISCELLANEOUS - Abstract
International audience
- Published
- 2003