Gate patterning for ultimate CMOS device fabrication

Authors :: Joubert, O.
Vallier, L.
Cunge, G.
Foucher, J.
Detter, X.
Pargon, E.
Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM)
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Clot, Marielle
Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Source :: Gordon Research Conference, Gordon Research Conference, 2002, Tilton, United States
Publication Year :: 2002
Publisher :: HAL CCSD, 2002.
Abstract: International audience

Language :: English
Database :: OpenAIRE
Journal :: Gordon Research Conference, Gordon Research Conference, 2002, Tilton, United States
Accession number :: edsair.dedup.wf.001..578c7993e95027b1155bf9fb31090b40

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