Low-k epoxy silsesquioxane resists for UV nanoimprint lithography

Authors :: Chouiki, M.
Ridaoui, H.
Zelsmann, M.
Boussey-Said, J.
De Girolamo, J.
Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM)
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Clot, Marielle
Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Source :: Nanoimprint and Nanoprint Technology conference-NNT 2007, Nanoimprint and Nanoprint Technology conference-NNT 2007, 2007, paris, France
Publication Year :: 2007
Publisher :: HAL CCSD, 2007.
Abstract: International audience

Language :: English
Database :: OpenAIRE
Journal :: Nanoimprint and Nanoprint Technology conference-NNT 2007, Nanoimprint and Nanoprint Technology conference-NNT 2007, 2007, paris, France
Accession number :: edsair.dedup.wf.001..a4a6d093bb3ea6748185b411eb880bdb

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