Resistive heat source for thin film deposition by means of vacuum evaporation

Comprende: - una parrilla (10, 11) que está formada por una pluralidad de hilos (12) de metal refractario que están yuxtapuestos uno al lado de otro en paralelo, estando la parrilla (10, 11) destinada a soportar una cantidad de un material evaporante (13) fundido, para ser evaporado en vacío con el fin de formar un depósito en forma de lámina delgada, donde los hilos (12) comprenden dos extremos; y dos casquillos de conexión (14), localizados en ios extremos, y que mantienen unidos todos los hilos (12) entre sí, y facilitan la conexión de los hilos (12) con una fuente de electricidad. Se puede emplear una parrilla recta (10), con hilos (12) rectos, o una parrilla curvada (11), con hilos (12) que presentan una parte curvada formando una diferencia de nivel (R). [EN]
The invention relates to a resistive heat source comprising: an array (10, 11) formed by a plurality of wires (12) of refractory metal that are juxtaposed side by side in parallel, the array (10, 11) being intended to support an amount of molten evaporating material (13) to be vacuum evaporated to form a thin film deposit, wherein the wires (12) comprise two ends; and two connection caps (14) located at the ends, which keep all the wires (12) joined together and facilitate the connection of the wires (12) to an electricity source. A straight array (10) with straight wires (12) or a curved array (11) with wires (12) having a curved part forming a difference of level (R) can be used. [EN]