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A stacked SONOS technology, up to 4 levels and 6nm crystalline nanowires, with gate-all-around or independent gates (Φ-Flash), suitable for full 3D integration.
Authors :
Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (FEMTO-ST) ; CNRS - Université de Franche-Comté - Université de Technologie de Belfort-Montbeliard - Ecole Nationale Supérieure de Mécanique et des Microtechniques Bertin Technologies (Bertin Technologies) ; Bertin Technologies Laboratoire d'Electronique et des Technologies de l'Information (LETI) ; CEA Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; CNRS - Université Joseph Fourier - Grenoble I Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés (SIMaP) ; CNRS - Université Joseph Fourier - Grenoble I - Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG) Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation (IMEP-LAHC) ; CNRS - Université de Savoie - Université Joseph Fourier - Grenoble I - Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG) Hubert, A. Nowak, E. Tachi, K. Maffini-Alvaro, V. Vizioz, C. Arvet, C. Colonna, J.-P. Hartmann, J.-M. Loup, V. Baud, L. Pauliac, S. Delaye, V. Carabasse, C. Molas, G. Ghibaudo, G. De Salvo, B. Faynot, O. Ernst, T. Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (FEMTO-ST) ; CNRS - Université de Franche-Comté - Université de Technologie de Belfort-Montbeliard - Ecole Nationale Supérieure de Mécanique et des Microtechniques Bertin Technologies (Bertin Technologies) ; Bertin Technologies Laboratoire d'Electronique et des Technologies de l'Information (LETI) ; CEA Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; CNRS - Université Joseph Fourier - Grenoble I Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés (SIMaP) ; CNRS - Université Joseph Fourier - Grenoble I - Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG) Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation (IMEP-LAHC) ; CNRS - Université de Savoie - Université Joseph Fourier - Grenoble I - Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG) Hubert, A. Nowak, E. Tachi, K. Maffini-Alvaro, V. Vizioz, C. Arvet, C. Colonna, J.-P. Hartmann, J.-M. Loup, V. Baud, L. Pauliac, S. Delaye, V. Carabasse, C. Molas, G. Ghibaudo, G. De Salvo, B. Faynot, O. Ernst, T.
Source :
IEEE International Electron Devices Meeting, Baltimore,; IEEE International Electron Devices Meeting, Baltimore,, Dec 2009, United States
Abstract
National audience
Details
Database :
OAIster
Journal :
IEEE International Electron Devices Meeting, Baltimore,; IEEE International Electron Devices Meeting, Baltimore,, Dec 2009, United States
Notes :
IEEE International Electron Devices Meeting, Baltimore, English
Publication Type :
Electronic Resource
Accession number :
edsoai.ocn893170407
Document Type :
Electronic Resource