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Impact of Progressive Soft Oxide Breakdown on MOS Parameters: Experiment and Modelling.

Authors :
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation (IMEP-LAHC) ; CNRS - Université de Savoie - Université Joseph Fourier - Grenoble I - Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)
Gerrer, L.
Ribes, G.
Ghibaudo, G.
Jomaah, J.
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation (IMEP-LAHC) ; CNRS - Université de Savoie - Université Joseph Fourier - Grenoble I - Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)
Gerrer, L.
Ribes, G.
Ghibaudo, G.
Jomaah, J.
Source :
15th Workshop on Dielectrics in Microelectronics, Berlin, Germany; 15th Workshop on Dielectrics in Microelectronics, Berlin, Germany, Jun 2008, France

Abstract

International audience

Details

Database :
OAIster
Journal :
15th Workshop on Dielectrics in Microelectronics, Berlin, Germany; 15th Workshop on Dielectrics in Microelectronics, Berlin, Germany, Jun 2008, France
Notes :
15th Workshop on Dielectrics in Microelectronics, Berlin, Germany, English
Publication Type :
Electronic Resource
Accession number :
edsoai.ocn893169389
Document Type :
Electronic Resource

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Authors Abstract Subjects Details