Molekülabsorptionsspektrometrie bei elektrothermischer verdampfung in einer graphitrohrküvette

Zusammenfassung Eine direkte Bestimmungsmethode von Fluoridspuren durch Messung der GaF-MA in einem Graphitrohratomisator wird beschrieben. Die apparativen Bedingungen (Kompensation der unspezifischen Absorption, Temperaturen der Veraschungsphase und der Phase der Verdampfung/Molekulbildung) wurden optimiert. Der Einfluβ der Ga 3+ - und Na + - Konzentration und der Konzentration verschiedener Sauren auf die Bestimmung wurde untersucht und diskutiert. Hohere Konzentrationen an Ga 3+ -Ionen bewirken eine hohere Konzentration der GaF-Molekule im Plasma des Graphitrohres. Hohere Na + -Konzentrationen bewirken einen geringeren Verlust an HF wahrend der Trocknungsphase. Die Nachweisgrenze (3 s) ist 1,6 ngF - /10 μl; die reziproke Empfindlichkeit ist 0,8 ng F - /10 μl bezogen auf 0,01 E. Der Einflu/GB von Cl - -, Br - -, J - -, SO 4 2- -, BO 3 3- -, SiO 3 2- -, Li + -, K + -, Be 2+ -, Mg 2+ -, Ca 2+ -, Al 3+ -, In 3+ -, Zn 2+ -, Cd 2+ - und Fe 3+ -Ionen auf die Bestimmung wurde untersucht.