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Improved performance of flexible CMOS technology using ultimate thinning and transfer bonding

Authors :
Jean-François Robillard
Emmanuel Dubois
Christophe Gaquiere
Francois Danneville
Daniel Gloria
Justine Philippe
C. Raynaud
Matthieu Berthomé
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 (IEMN)
Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)
Microélectronique Silicium - IEMN (MICROELEC SI - IEMN)
Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)-Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)
Puissance - IEMN (PUISSANCE - IEMN)
Advanced NanOmeter DEvices - IEMN (ANODE - IEMN)
STMicroelectronics [Crolles] (ST-CROLLES)
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI)
Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA))
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)
Renatech Network
Laboratoire commun STMicroelectronics-IEMN T1
Laboratoire commun STMicroelectronics-IEMN T4
ANR-11-EQPX-0025,LEAF,Plateforme de traitement laser pour l'électronique flexible multifonctionnelle(2011)
Microélectronique Silicium - IEMN (MICROE SI - IEMN)
Source :
6th Electronic System-Integration Technology Conference (ESTC), 6th Electronic System-Integration Technology Conference (ESTC), Sep 2016, Grenoble, France. ⟨10.1109/ESTC.2016.7764513⟩
Publication Year :
2016
Publisher :
HAL CCSD, 2016.

Abstract

International audience; Based on a simple process referred to as ultimate thinning-and-transfer-bonding (UTTB), this paper shows that the high-frequency performance of advanced CMOS technologies can be combined with mechanical flexibility and transparency. The invariance upon thinning, transfer and flexure of both DC and RF CMOS electrical characteristics is demonstrated. Specific to high power RF applications, the complete elimination of the silicon handler improves the second and third harmonic rejection by 36 and 40 dBm, respectively, when compared to a high resistivity SOI substrate.

Details

Language :
English
Database :
OpenAIRE
Journal :
6th Electronic System-Integration Technology Conference (ESTC), 6th Electronic System-Integration Technology Conference (ESTC), Sep 2016, Grenoble, France. ⟨10.1109/ESTC.2016.7764513⟩
Accession number :
edsair.doi.dedup.....5ba4700bb4ddc608817f68e0506f0ea5
Full Text :
https://doi.org/10.1109/ESTC.2016.7764513⟩