Adsorption de disilane sur Si(111) 7 × 7. Influence de l'hydrogène

L'adsorption de disilane sur Si(111) 7 x 7 dans la gamme de température 25-550 °C fait apparaître la formation des phases mono et dihydrure déjà observées avec les systèmes Si(111) : H et Si(111) : SiH4. La phase monohydrure Si-H est maximale à 350 °C et subsiste jusqu'à 550 °C. La phase dihydrure est très importante à température ambiante (TA), inexistante à partir de 250 °C et traduit la formation d'un polysilane de type (SiH 2)n. Une surface (111) de silicium, saturée en hydrogène ou disilane à 350 °C, est passivée vis-à-vis du disilane à TA. Pour obtenir la formation d'une phase dihydrure, il est nécessaire de casser la molécule de disilane ou d'hydrogène au contact d'un filament de tungstène porté à haute température. Par comparaison avec l'adsorption de disilane sur Ge(111), nous concluons, à partir de mesures XPS, qu'une partie au moins de la phase dihydrure résulte de la fixation de groupements SiH2.