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Variability Evaluation of 28nm FD-SOI Technology at Cryogenic Temperatures down to 100mK for Quantum Computing

Authors :
M. Casse
Andre Juge
Ph. Galy
A. G. M. Jansen
Emmanuel Vincent
Gerard Ghibaudo
L. Le Guevel
M. Vinet
Gerard Billiot
F. Gaillard
B. Cardoso Paz
S. De Franceschi
T. Meunier
Romain Maurand
Sebastien Haendler
Gael Pillonnet
Laboratoire de Transport Electronique Quantique et Supraconductivité (LaTEQS)
PHotonique, ELectronique et Ingénierie QuantiqueS (PHELIQS)
Institut de Recherche Interdisciplinaire de Grenoble (IRIG)
Direction de Recherche Fondamentale (CEA) (DRF (CEA))
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Direction de Recherche Fondamentale (CEA) (DRF (CEA))
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Grenoble Alpes (UGA)-Institut de Recherche Interdisciplinaire de Grenoble (IRIG)
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Grenoble Alpes (UGA)
Source :
2020 IEEE Symposium on VLSI Technology, 2020 IEEE Symposium on VLSI Technology, Jun 2020, Honolulu, France. pp.1-2, ⟨10.1109/VLSITechnology18217.2020.9265034⟩
Publication Year :
2020
Publisher :
HAL CCSD, 2020.

Abstract

Variability of28nm FD-SOI transistors is evaluated for the first time down to ultra low temperatures (UL T), at T= 1 00mK. High performance is achieved at UL T for short channel transistors, with $\mathrm{I}_{\mathrm{ON}} > 1\mathrm{mA}\mu \mathrm{m}$ and $\mathrm{I}_{\mathrm{OFF}}$ below the equipment accuracy $(\mathrm{V}_{\mathrm{TH}})$ and current gain factor $(\beta)$ variabilities. Besides that, we demonstrated that the increase of $\mathrm{V}_{\mathrm{TH}}$ and $\beta$ variabilities at low temperature remains reasonably low in comparison to RT values and other CMOS technologies, so that it should not be detrimental to circuit operation in this range of temperatures.

Details

Language :
English
Database :
OpenAIRE
Journal :
2020 IEEE Symposium on VLSI Technology, 2020 IEEE Symposium on VLSI Technology, Jun 2020, Honolulu, France. pp.1-2, ⟨10.1109/VLSITechnology18217.2020.9265034⟩
Accession number :
edsair.doi.dedup.....5163dcbc8e23295775a0f5bf38f6cafb
Full Text :
https://doi.org/10.1109/VLSITechnology18217.2020.9265034⟩