Etude et synthèse de résines positives sensibles aux électrons et aux rayons X utilisées dans les procédés de microlithographie

Authors :: A. Eranian
E. Datamanti
C. Montginoul
F. Schue
L. Giral
B. Serre
J. c. Dubois
Source :: Revue de Physique Appliquée, Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP, 1985, 20 (2), pp.77-86. ⟨10.1051/rphysap:0198500200207700⟩
Publication Year :: 1985
Publisher :: HAL CCSD, 1985.
Abstract: En vue d'améliorer la sensibilité des résines positives deux directions de recherche ont été poursuivies : — l'une a trait aux poly(méthacrylates d'alcoyle) fluorés sur la chaîne ester avec des structures et des longueurs de chaînes différentes, — l'autre a trait aux poly(α-cyanoacrylates d'alcoyle). Les caractéristiques lithographiques des différentes résines synthétisées et exposées à l'action d'un rayonnement (électrons et RX) font l'objet de ce travail.

Language :: French
ISSN :: 00351687 and 27773671
Database :: OpenAIRE
Journal :: Revue de Physique Appliquée, Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP, 1985, 20 (2), pp.77-86. ⟨10.1051/rphysap:0198500200207700⟩
Accession number :: edsair.doi.dedup.....432132d3215154ce53488e4822c6c561
Full Text :: https://doi.org/10.1051/rphysap:0198500200207700⟩

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