Réponse d'un échantillon métallique à structure fractale à une excitation électrique à fréquence variable

Le grand interet suscite par les materiaux a structure fractale ces dernieres decennies nous a conduits a etudier tout particulierement le comportement electrique d'echantillons metalliques dont les motifs sont du type “Arbre fractal”. Les caracteristiques singulieres de ces structures telles l'autosimilarite et la dimension fractionnaire D f conferent des proprietes physiques particulieres a ces materiaux. L'analyse de ces structures est envisagee en realisant un condensateur de type MIS (Metal-Isolant-Semi-conducteur) dont une des armatures presente une dimension fractionnaire, l'autre est plane et l'isolant est un oxyde de silicium (SiO 2 ). Les simulations et les mesures effectuees ont permis de mettre en evidence sur l'impedance d'une telle structure, une evolution frequentielle etroitement correlee a la structure meme de l'echantillon. Ce comportement que l'on qualifiera par la suite de “fractal”, peut se resumer ainsi : soumis a une excitation electrique a frequence variable, cet echantillon se caracterise par une impedance complexe qui, a partir d'une frequence caracteristique, presente une phase constante c'est-a-dire que ses parties reelle et imaginaire ont la meme loi de dependance frequentielle. L'etude que nous presentons concerne d'une part, la mise en evidence de ce comportement et d'autre part, les conditions permettant d'ajuster la plage de frequence sur laquelle ce comportement apparait.