Dünne Schichten durch Deposition unter streifenden Einfall

Eine physikalische Deposition unter den Bedingungen eines schrag einfallenden Partikelflusses und begrenzter Adatom-Diffusion fuhrt zu Schichten mit einer saulenartigen Mikrostruktur. Diese Saulen sind in Richtung der Partikelquelle orientiert. Eine zusatzliche Substratrotation kann genutzt werden, um diese Strukturen in unterschiedlicher Gestalt (senkrechte und geneigte Saulen, Zick-Zack-Strukturen, Schrauben, Spiralen) zu entwickeln. Mit der Deposition unter schragem Partikeleinfall (GLAD) konnen porose dunne Schichten von isolierenden, halbleitenden und metallischen Materialien konstruiert werden. In dieser Arbeit werden die physikalischen Grundlagen der GLAD-Technologie vorgestellt, die Herstellung von Mikro- und Nano-Struktruren unterschiedlichen Habitus auf nicht strukturierten und vorstrukturierten Substraten demonstriert und auf einige potentielle Anwendungen dieser neuen Depositionstechnologie hingewiesen. Micro- and nanostructured thin films by Glancing angle deposition Physical vapour deposition under conditions of obliquely incident flux and limited adatom diffusion results in films with a columnar microstructure. These columns will be oriented toward the vapour source. An additional substrate rotation can be used to sculpt the columns into various morphologies (slanted and vertical posts, chevrons, screws or spirals). With this glancing angle deposition (GLAD) technique can prepared porous thin films with engineered structures from a variety of dielectric, semiconducting and metallic materials. The paper presents the In this paper the physical fundamentals of the GLAD technique are introduced, the production of micro- and nanostructures of different morphology on non-patterned and patterned substrates is demonstrated and some possible applications of this new deposition technique are introduced.