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Investigation of oxidation of Nb3Ge
- Source :
- High Power Laser and Particle Beams. 25:2307-2312
- Publication Year :
- 2013
- Publisher :
- Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, 2013.
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Abstract
- 运用密度泛函理论计算了氧(O)在Nb3Ge表面的吸附,结果表明O倾向于吸附在Nb原子周围,并与Nb的电子轨道发生了明显的交叠,O与Nb形成兼具共价键和离子键特性的化学键。利用X射线光电子能谱对自然氧化的Nb3Ge表面进行成分分析发现:氧化层中只存在Nb的氧化物,理论计算结果与实验结果一致。由于O容易与Nb结合,最外层的Nb因逐渐氧化而耗尽,在接触势的驱使下,内部的Nb原子与最外层的Ge原子交换,最终使得Nb与O的形成氧化物在Nb3Ge表面聚集,在该氧化层下面是由于Nb的耗尽而形成的Ge聚集层。
- Subjects :
- Electrical and Electronic Engineering
Atomic and Molecular Physics, and Optics
Subjects
Details
- ISSN :
- 10014322
- Volume :
- 25
- Database :
- OpenAIRE
- Journal :
- High Power Laser and Particle Beams
- Accession number :
- edsair.doi...........5b4330ca5350037313bd7ee8bcacc241