Back to Search
Start Over
ChemInform Abstract: A NEW METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF SILICON DIOXIDE
- Source :
- Chemischer Informationsdienst. 5
- Publication Year :
- 1974
- Publisher :
- Wiley, 1974.
-
Abstract
- Es wird uber eine neue Abscheidungsmethode von SiO2- Filmen aus der Dampfphase′ durch Oxidation von dampfformigen Alkylsilanen berichtet.
Details
- ISSN :
- 00092975
- Volume :
- 5
- Database :
- OpenAIRE
- Journal :
- Chemischer Informationsdienst
- Accession number :
- edsair.doi...........19770751d60f772a5ba3c91b514de948
- Full Text :
- https://doi.org/10.1002/chin.197447010