Deep metal deposition in a porous matrix by High power impulse magnetron sputtering (HiPIMS), porous substrates impregnated with metal catalyst and uses thereof

Authors :: Cuynet, Stéphane
Caillard, Amaël
Brault, Pascal
Bigarre, Jannick
Buvat, Pierrick
Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés (GREMI)
Université d'Orléans (UO)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
CEA Le Ripault (CEA Le Ripault)
Direction des Applications Militaires (DAM)
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)
Source :: France, Patent n° : FR1400306 / WO2015114168A1 (extension internationale du 06/08/2015). 2014
Publication Year :: 2014
Publisher :: HAL CCSD, 2014.

Subjects :: [SPI.PLASMA]Engineering Sciences [physics]/Plasmas
[SPI.MAT]Engineering Sciences [physics]/Materials

Language :: English
Database :: OpenAIRE
Journal :: France, Patent n° : FR1400306 / WO2015114168A1 (extension internationale du 06/08/2015). 2014
Accession number :: edsair.dedup.wf.001..ff05befabe6ffdcb55fcaa04e6f9b645

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