Plasma etching processes for future electronic devices

Authors :: Pargon, E.
Martin, M.
Sungauer, E.
Luere, O.
Menguelti, K.
Mellhaoui, X.
Chevolleau, T.
Cunge, G.
Vallier, L.
Joubert, O.
Morel, T.
Barnola, S.
Foucher, J.
Lill, T.
Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM)
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés (SIMaP)
Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP )-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)
Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP )-Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Source :: Journées nationales sur les technologies émergentes en micro-nano fabrication, (JNTE), Journées nationales sur les technologies émergentes en micro-nano fabrication, (JNTE), 2008, toulouse, France
Publication Year :: 2008
Publisher :: HAL CCSD, 2008.
Abstract: International audience

Language :: English
Database :: OpenAIRE
Journal :: Journées nationales sur les technologies émergentes en micro-nano fabrication, (JNTE), Journées nationales sur les technologies émergentes en micro-nano fabrication, (JNTE), 2008, toulouse, France
Accession number :: edsair.dedup.wf.001..7e0d05b034a0cf609dbad50a719be490

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