Smoothening of 193 Immersion Resist by 172 nm VUV Exposure

Authors :: Kunnen, E.
Vaglio Pret, A.
Luere, O.
Azarnouche, L.
Pargon, E.
Foubert, P.
Gronheid, R.
Shamiryan, D.
Baklanov, M.
Boullart, W.
Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM)
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Clot, Marielle
Source :: 56th International AVS Symposium & Topical Conferences, 56th International AVS Symposium & Topical Conferences, Oct 2010, Albuquerque (USA), United States
Publication Year :: 2010
Publisher :: HAL CCSD, 2010.
Abstract: International audience

Language :: English
Database :: OpenAIRE
Journal :: 56th International AVS Symposium & Topical Conferences, 56th International AVS Symposium & Topical Conferences, Oct 2010, Albuquerque (USA), United States
Accession number :: edsair.dedup.wf.001..5439abeabc4361559d07ff5281ffda7b

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