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Copolímeros silliados con grupos silsesquioxano, su preparación y utilización como matrices láser de alta fotoestabilidad

Authors :
Costela González, Ángel
García Ballesteros, Olga
Garcia-Moreno, I.
Martín Torres, Virginia
Sastre Muñoz, Roberto
Source :
Digital.CSIC. Repositorio Institucional del CSIC, instname
Publication Year :
2008

Abstract

Copolímeros sililados con grupos silsesquioxano, su preparación y utilización como matrices láser de alta fotoestabilidad. La incorporación de los grupos silsesquioxano al copolímero se lleva a cabo a partir de monómeros con un número variable de dobles enlaces polimerizables por molécula de silsesquioxano, de uno hasta doce. Los copolímeros obtenidos, lineales y entrecruzados, presentan unas excelentes propiedades ópticas y altas fotoestabilidades, propiedades que les hacen especialmente aplicables como matrices sólidas para la fabricación de emisores de luz láser cuando a las mismas se les incorporan durante el proceso de su polimerización un colorante láser soluble en el medio de reacción y en el copolímero final obtenido. Los emisores láser así obtenidos presentan unas eficiencias superiores a las obtenidas con los colorantes comerciales, tanto en disolución líquida, como en otras matrices sólidas, siendo de destacar la alta fotoestabilidad que presentan estas matrices sililadas, incluso bajo condiciones extremas de trabajo.<br />Consejo Superior de Investigaciones Científicas (España)<br />A1 Solicitud de patente con informe sobre el estado de la técnica<br />B1 Patente sin examen previo

Subjects

Subjects :
Patente
Copolímeros silliados

Details

Database :
OpenAIRE
Journal :
Digital.CSIC. Repositorio Institucional del CSIC, instname
Accession number :
edsair.dedup.wf.001..295628c5c2a47435f6675f8b1f98bc57