Infra-red characterizations of metal oxide thin films

Authors :: Bertrand Vilquin
INL - Hétéroepitaxie et Nanostructures (INL - H&N)
Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL)
École Centrale de Lyon (ECL)
Université de Lyon-Université de Lyon-Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL)
Université de Lyon-École supérieure de Chimie Physique Electronique de Lyon (CPE)-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon)
Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-École Centrale de Lyon (ECL)
Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Vilquin, Bertrand
Source :: CMOS ET, CMOS ET, May 2017, Varsovie, Poland, HAL
Publication Year :: 2017
Publisher :: HAL CCSD, 2017.
Abstract: International audience

Subjects :: [CHIM.MATE] Chemical Sciences/Material chemistry
[SPI.NANO] Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/Microelectronics
[PHYS.COND.CM-MS]Physics [physics]/Condensed Matter [cond-mat]/Materials Science [cond-mat.mtrl-sci]
[CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry
[SPI.MAT] Engineering Sciences [physics]/Materials
[SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/Microelectronics
[PHYS.COND.CM-MS] Physics [physics]/Condensed Matter [cond-mat]/Materials Science [cond-mat.mtrl-sci]
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[SPI.MAT]Engineering Sciences [physics]/Materials

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