Procedimiento para el depósito de capas gruesas de boro

Procedimiento de depósito de una capa de boro sobre un substrato mediante evaporación física con haz de electrones, caracterizado porque comprende: a) obtener un substrato limpiado que comprende una primera capa de adhesión, b) proteger el substrato, c) alcanzar un vacio mínimo de 5x10 -6 mbar, d) calentar el substrato a una temperatura mínima de 115ºC, e) depositar mediante EBPVD sin que haya fragmentos de boro de tamaño inferior a 0,25 mm y manteniendo el cono de evaporación enfocado, f) depositar otra capa de adhesión sobre la capa de , y g) enfriar el substrato; donde las etapas e) y f) tienen lugar al menos una vez para obtener una capa de boro con un espesor igual o superior a 1 μm. Así como el producto obtenido por dicho procedimiento y su uso como detector de neutrones
Consejo Superior de Investigaciones Científicas
B1 Patente sin examen previo