基于以顶层ITO为像素电极设计的产品工艺优化.

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吕艳明, et al. “基于以顶层ITO为像素电极设计的产品工艺优化. (Chinese).” Chinese Journal of Liquid Crystal & Displays, vol. 35, no. 3, Mar. 2020, pp. 219–26. EBSCOhost, https://doi.org/10.3788/YJYXS20203503.0219.

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吕艳明, 操彬彬, 栗芳芳, 安　晖, 叶成枝, 李法杰, 杨增乾, 彭俊林, 冯耀耀, 刘增利, 陆相晚, & 李恒滨. (2020). 基于以顶层ITO为像素电极设计的产品工艺优化. (Chinese). Chinese Journal of Liquid Crystal & Displays, 35(3), 219–226. https://doi.org/10.3788/YJYXS20203503.0219

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吕艳明, 操彬彬, 栗芳芳, 安　晖, 叶成枝, 李法杰, 杨增乾, et al. 2020. “基于以顶层ITO为像素电极设计的产品工艺优化. (Chinese).” Chinese Journal of Liquid Crystal & Displays 35 (3): 219–26. doi:10.3788/YJYXS20203503.0219.