Search

The work developed chemically stable attachments manufacturing low temperature (room temperature) self-assembled hybrid heterostructures on silicon substrates pattern of heterocyclic amines for photovoltaic solar energy. It analyzed the materials and tooling design, which consists of bath and holder plates.Developed immersion bath for four sizes of plates, plates for 4 inches and 6 inches, and for 4 plates and 10 plates. Each bathroom has an upper cover. Plate holder is collapsible design, which is the actual holder of the set and props at the plate, as round and square. The length of the holder has a different size depending on the number of plates for which it is designed., В работе разработана химически стойкая технологическая оснастка изготовления низкотемпературных (при комнатной температуре) самоорганизующихся гибридных гетероструктур на основе паттерна подложек кремния с гетероциклическими аминами для фотопреобразователей солнечной энергии. Был проведен анализ материалов и конструкции оснастки, которая состоит из ванны и держателя пластин. Разработана ванна для погружения пластин четырех типоразмеров: для пластин 4 дюйма и 6 дюймов, а также для 4 пластин и 10 пластин. Каждая ванна имеет верхнюю крышку. Держатель пластин является разборной конструкцией, которая состоит собственно из держателя и набора подставок под пластины, как круглые, так и квадратные. Длина держателя имеет разный размер в зависимости от количества пластин, на которые она рассчитана., В роботі розроблено хімічно стійку технологічну оснастку виготовлення низькотемпературних (при кімнатній температурі) самоорганізованих гібридних гетероструктур на основі патерних підкладок кремнію з гетероциклічними амінами для фотоперетворювачів сонячної енергії. Було проведено аналіз матеріалів та конструкції оснастки, яка складається з ванни та тримача пластин. Розроблена ванна для занурювання пластин чотирьох типорозмірів: для пластин 4 дюйми та 6 дюймів, а також для 4 пластин та 10 пластин. Кожна ванна має верхню кришку. Тримач пластин є розбірною конструкцією, яка складається власне з тримача та набору підставок під пластини, як круглі, так і квадратні. Довжина тримача має різний розмір в залежності від кількості пластин, на які вона розрахована.

В роботі розроблено хімічно стійку технологічну оснастку виготовлення низькотемпературних (при кімнатній температурі) самоорганізованих гібридних гетероструктур на основі патерних підкладок кремнію з гетероциклічними амінами для фотоперетворювачів сонячної енергії. Було проведено аналіз матеріалів та конструкції оснастки, яка складається з ванни та тримача пластин. Розроблена ванна для занурювання пластин чотирьох типорозмірів: для пластин 4 дюйми та 6 дюймів, а також для 4 пластин та 10 пластин. Кожна ванна має верхню кришку. Тримач пластин є розбірною конструкцією, яка складається власне з тримача та набору підставок під пластини, як круглі, так і квадратні. Довжина тримача має різний розмір в залежності від кількості пластин, на які вона розрахована. The work developed chemically stable attachments manufacturing low temperature (room temperature) self-assembled hybrid heterostructures on silicon substrates pattern of heterocyclic amines for photovoltaic solar energy. It analyzed the materials and tooling design, which consists of bath and holder plates. Developed immersion bath for four sizes of plates, plates for 4 inches and 6 inches, and for 4 plates and 10 plates. Each bathroom has an upper cover. Plate holder is collapsible design, which is the actual holder of the set and props at the plate, as round and square. The length of the holder has a different size depending on the number of plates for which it is designed. В работе разработана химически стойкая технологическая оснастка изготовления низкотемпературных (при комнатной температуре) самоорганизующихся гибридных гетероструктур на основе паттерна подложек кремния с гетероциклическими аминами для фотопреобразователей солнечной энергии. Был проведен анализ материалов и конструкции оснастки, которая состоит из ванны и держателя пластин. Разработана ванна для погружения пластин четырех типоразмеров: для пластин 4 дюйма и 6 дюймов, а также для 4 пластин и 10 пластин. Каждая ванна имеет верхнюю крышку. Держатель пластин является разборной конструкцией, которая состоит собственно из держателя и набора подставок под пластины, как круглые, так и квадратные. Длина держателя имеет разный размер в зависимости от количества пластин, на которые она рассчитана.

During the last years, optical low loss components gained more and more industrial interest and led to novel approaches for the production in optical coating technology. The application of filtered deposition technologies promises a significant reduction of particle contamination. Usually, filtered techniques are applied in combination with processes which produce a high level of undesired particles, like the cathodic arc deposition. In the present contribution, a magnetic field filter is applied in combination with a high quality ion beam sputtering process. The focus of the investigation constitutes the modulation of the guiding process with respect to the guiding efficiency. Numerical investigations reveal the trajectories of the ions during the guiding process and allow to analyze the influence of the magnetic field and the resulting electrostatic potential. In this study, the guiding effect is observed to be dominated by the electric potential compared to the magnetic field. However according to the simulations, very high ion guiding efficiencies can be achieved using moderate magnetic fields and electrical potentials. Furthermore, it is demonstrated that the experiemental and calculated efficiencies agree well. Consequently, the simulation is the basis for a further optimization of the filtered ion beam sputtering processes. © 2015 SPIE. DFG/EXC/QUEST

One important recent trend in deposition technology is the continuous expansion of available processes towards higher ion assistance with the subsequent beneficial effects to film properties. Nowadays, a multitude of processes, including laser ablation and deposition, vacuum arc deposition, ion assisted deposition, high power impulse magnetron sputtering and plasma immersion ion implantation, are available. However, there are obstacles to overcome in all technologies, including line-of-sight processes, particle contaminations and low growth rates, which lead to ongoing process refinements and development of new methods. Concerning the deposited thin films, control of energetic ion bombardment leads to improved adhesion, reduced substrate temperatures, control of intrinsic stress within the films as well as adjustment of surface texture, phase formation and nanotopography. This review illustrates recent trends for both areas; plasma process and solid state surface processes. �� 2010 by the authors.