Search

Korozijski postojani materijali koriste se kako u svakodnevnom životu, tako i u svim granama industrije. Sve više se koriste i u građevinarstvu, različitim područjima strojarstva, brodogradnji, itd. Jedna od najvažnijih skupina konstrukcijskih postojanih materijala jesu tzv. „nehrđajući čelici“. Upravo zahvaljujući rasprostranjenosti primjene te visokim zahtjevima kvalitete, oni se i danas razvijaju i čine jednu od najvažnijih skupina korozijski postojanih konstrukcijskih materijala. Iako nose naziv nehrđajući svjedoci smo korozije tih čelika, pa se nerijetko, pri eksploataciji javljaju iznenadna i vrlo neugodna korozijska oštećenja. Upravo je radi toga od velike važnosti pravilno održavati pasivnost površinskih slojeva čelika kako ne bi izgubio na kvaliteti i dugotrajnosti. Čelik će biti otporniji na korozijsko djelovanje, ako mu je širi interval potencijala pasivacije. Glavni element potreban za usporenje procesa korozije jest krom. On pasivira površinu čelika i čini je otpornom na djelovanje oksidirajućih medija. Osim kroma važan element je i ugljik.

U ovom radu proučavana je depasivacija AA 2007A, AA 2011A i AA 2017A legura u NaCl otopini. Snimanjem anodnih polarizacijskih krivulja (u granicama od -1.0 do -0.5 V uz brzinu od 1 mV s-1) proučavan je utjecaj koncentracije kloridnih iona (od 0.01 do 2 M) na prces razaranja prirodnog oksidnog sloja (osidacija na zraku kroz vrijeme od 5 minuta). Anodnom polarizacijom svih uzoraka, nakon prolaska kroz pasivno područje potencijala, postiže se potencijal depasivacije pri kojem dolazi do značajnog porasta anodne struje. Naime, dolazi do razaranja oksidnog sloja i pojave lokalne aktivacije površine uz stvaranje sitnih rupica, “pitova”. Primjećeno je da porastom koncetracije Cl- iona potencijal depasivacije svih ispitivanih aluminijevih legura postaje negativniji. Također je uočeno da pomak potencijala depasivacije u negativnu stranu znatno ovisi i o sastavu legure. Najveći pomak izmjeren je za AA 2017A leguru (152 mV), a najmanji za AA 2007A leguru (111 mV). Nadalje, uočeno je da se porastom koncetracije Cl- iona polarizacijski otpor svih ispitivanih aluminijevih legura značajno smanjuje te da opada redom: AA 2017A > AA 2011A > AA 2007A.

U ovom radu je proučavana depasivacija tehničkog aluminija u NaCl otopini. Snimane su polarizacijske krivulje u granicama od -1.0 do -0.5 V. Ispitan je utjecaj koncentracije kloridnih iona (od 0.01 do 2 M) i brzine promjene potencijala (od 0.5 do 10 mV s-1) te mogućnost repasivacije oksidnog sloja na aluminiju. Neposredno prije izvođenja svih mjerenja, na površini Al oksidacijom na zraku formiran je prirodni oksidni film. Ustanovljeno je da se anodnom polarizacijom aluminija, nakon prolaska kroz pasivno područje potencijala, postiže potencijal pri kojem dolazi do razaranja oksidnog sloja i pojave lokalne aktivacije površine uz stvaranje sitnih rupica, “pitova”. Porastom koncentracije kloridnih iona potencijal depasivacije pomiče se prema negativnijim vrijednostima, dok se polarizacijski otpor značajno smanjuje. Također je primijećeno da potencijal depasivacije postaje pozitivniji ukoliko je promjena potencijala u pozitivnom smjeru brža, što znači da je za pojavu pittinga potrebno izvjesno vrijeme (indukcijsko vrijeme) nakon što se uspostavi stvarni potencijal depasivacije. Neovisno o pomaku potencijala depasivacije prema pozitivnijim vrijednostima, brzina promjene potencijala ne utječe na vrijednost polarizacijskog otpora. Nadalje, pri potencijalu repasivacije, Erp, oštećenja u oksidnom filmu se „popravljaju“, a metal se opet dovodi u pasivno stanje. Potencijal na kojem dolazi do repasivacije već stvorenih pitova znatno je negativniji od potencijala depasivacije, Edp.

U ovom radu je proučavana depasivacija kositra u NaCl otopini. Snimane su polarizacijske krivulje u granicama od -0.7 do -0.2 V. Ispitan je utjecaj koncentracije kloridnih iona (od 0.01 do 2 M) i brzine promjene potencijala (od 0.5 do 10 mV s-1) te mogućnost repasivacije oksidnog sloja na kositru. Neposredno prije izvođenja svih mjerenja, na površini kositra oksidacijom na zraku formiran je prirodni oksidni film. Ustanovljeno je da se anodnom polarizacijom kositra, nakon prolaska kroz pasivno područje potencijala, postiže potencijal pri kojem dolazi do razaranja oksidnog filma i pojave lokalne aktivacije površine uz stvaranja sitnih rupica, “pitova”. Porastom koncentracije kloridnih iona potencijal depasivacije pomiče se prema negativnijim vrijednostima, dok se polarizacijski otpor značajno smanjuje. Također je primijećeno da potencijal depasivacije postaje pozitivniji ukoliko je promjena potencijala u pozitivnom smjeru brža, što znači da je za pojavu pittinga potrebno izvjesno vrijeme (indukcijsko vrijeme) nakon što se uspostavi stvarni potencijal depasivacije. Neovisno o pomaku potencijala depasivacije prema pozitivnijim vrijednostima, brzina promjene potencijala ne utječe na vrijednost polarizacijskog otpora. Nadalje, pri potencijalu repasivacije, Erp, oštećenja u oksidnom filmu se “ popravljaju”, a metal se opet dovodi u pasivno stanje. Potencijal na kojem dolazi do repasivacije već stvorenih pitova znatno je negativniji od potencijala depasivacije, Edp.

U stomatološkoj praksi se za izradu proteza i korektivnih aparata primjenjuju slitine izrađene na bazi kobalta i kroma. Da bi se odredilas njihova stabilnost pri reakciji s tjelesnim fluidima, korištena je u ovom radu metoda cikličke anodne polarizacije nekih komercijalnih i laboratorijski pripravljenih slitina. Kao elektrode su upotrebljenedvije eksperimentalne slitine iz sustava Co-Cr-X(X=Mo, Ni), Wironit tvrtke Bego i amalgamski preparat Permite. Za referentni materijal uzet je čisti Ti, jer je poznato da njegove slitine imaju izuzetno stabilan pasivni sloj.

U radu su ispitivana fotoelektrokemijska svojstva poluvodičkih faznih slojeva izraslih na bizmut supstratu u natrijevom sulfidu, koji je igrao ulogu formirajućeg i stabilizirajućeg elektrolita. Primjena optičkih metoda u kombinaciji sa cikličkom voltametrijom omogučila je in situ ispitivanja fotoelektrokemijskih svojstava za vrijeme formiranja i rasta poluvodičkog sloja i na već formiranom sloju.