1. Diagnóstico de feixe de raios X usando pticografia para alinhamento de elementos ópticos
- Author
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Luiz, Sérgio Augusto Lordano, 1992, Tomal, Alessandra, 1983, Dias, Carlos Sato Baraldi, 1983, Siervo, Abner de, Hernández-Figueroa, Hugo Enrique, Universidade Estadual de Campinas. Instituto de Física Gleb Wataghin, Programa de Pós-Graduação em Física, and UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
- Subjects
Ptychography ,Optical physics ,X-ray optics ,Synchrotron radiation ,Ótica de raio-X ,Pticografia ,Ray tracing ,Física ótica ,Traçado de raio ,Radiação sincrotrônica - Abstract
Orientadores: Alessandra Tomal, Carlos Sato Baraldi Dias Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Física Gleb Wataghin Resumo: Pticografia é uma técnica de imagem com contraste de fase e absorção, via difração coerente e recuperação de fase, recentemente demonstrada em raios X. Uma vantagem da técnica é a reconstrução tanto da amostra quanto da função complexa da iluminação, com resolução de poucos nanômetros, sem nenhum conhecimento prévio das mesmas. Essas características fazem da pticografia um dos métodos de diagnóstico mais robustos e precisos para avaliar a amplitude e a fase de um feixe de raios X de dimensões nanométricas. Neste trabalho, aplicamos a ótica ondulatória para simular o experimento de pticografia da fonte ao detector. As simulações do início ao fim permitem estudar como diferentes parâmetros, seja da fonte ou dos elementos ópticos, podem afetar o experimento de pticografia. Um código para recuperação de fase pticográfica baseado no algoritmo ePIE foi implementado e utilizado para as reconstruções com os dados simulados. O método foi aplicado à linha de luz CARNAÚBA do Sirius, a nova fonte de luz síncrotron brasileira, com o objetivo de quantificar as aberrações presentes no sistema óptico. Resultados de simulações de óptica geométrica e óptica ondulatória foram usados para determinar quais são os graus de liberdade mais críticos do sistema de espelhos do tipo Kirkpatrick-Baez (KB) e para estabelecer as tolerâncias de alinhamento. As aberrações foram analisadas tanto em termos de seus efeitos no ponto focal, com óptica geométrica, quanto em termos de decomposição da frente de onda em polinômios de Zernike. Por fim, a taxa de dose entregue a diferentes materiais é calculada usando simulação Monte Carlo, que determina o tempo máximo de exposição das amostras ao feixe de raios X para evitar que ocorram danos de radiação. Os resultados alcançados serão úteis no procedimento de alinhamento do sistema de espelhos KB, durante o comissionamento da linha de luz. Além disso, os métodos desenvolvidos neste trabalho podem potencialmente ser usados para implementar o alinhamento automático de sistemas de espelhos KB, que podem ser estendidos para outras nanossondas no Sirius Abstract: Ptychography is an absorption and phase contrast imaging method, via coherent diffraction and phase retrieval, recently demonstrated in X-rays. An advantage of this technique is the reconstruction of both the sample and the illumination complex functions, with resolution of a few nanometers, without any previous knowledge of them. These characteristics make ptychography one of the most robust and accurate diagnostic methods to assess the amplitude and phase of an X-ray beam of nanometric dimensions. In this work, we apply wave optics to simulate the ptychography experiment from source to detector. Start-to-end simulations allow one to study how different parameters, either from the source or optical elements, can affect the ptychography experiment. A code for ptychographic phase retrieval based on the ePIE algorithm was implemented and used for the reconstructions with the simulated data. The method was applied to the CARNAÚBA beamline of Sirius, the new Brazilian synchrotron light source, with the objective of quantifying aberrations present in the optical system. Results from geometric and wave optics simulations were used to determine which are the most critical degrees of freedom of the Kirkpatrick-Baez (KB) mirrors system and to establish the alignment tolerances. Aberrations are analyzed both in terms of their effects on the focal spot, with geometric optics, and in terms of the wavefront decomposition in Zernike polynomials. Finally, the delivered dose rate to different materials is calculated using Monte Carlo simulation, which dictates the maximum exposure time of the samples to the X-ray beam to prevent radiation damage from occurring. The achieved results will be useful at the alignment procedure of the KB mirrors system, during the commissioning of the beamline. Besides, the methods developed in this work can potentially be used to implement automatic alignment of KB mirrors systems, which can be extended to other nanoprobes in Sirius Mestrado Física Mestre em Física
- Published
- 2022