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Using atomic layer epitaxy (ALE) which is a soft deposition technique for ZnO it is possible to avoid the deposition of thick buffer layers by chemical bath deposition (CBD) and wet treatments can be almost reduced to surface treatments. In this work new electrochemical and chemical treatments have been designed with the objective of surface passivation and surface doping by using solutions with different reactivities (via pH, complexing agents, metallic cations). ZnO layers are then deposited by ALE to complete the junctions. The results show relations between the interface treatment and the cell characteristics. Efficiencies comparable and in some cases higher than those of the reference cells made with CBD CdS and sputtered ZnO have been obtained (up to 12.7% with indium treatments).

Die bereits früher publizierte, rot‐transparente, hydrolyseempfindliche, kubisch kristallisierende Verbindung Na24In5O15(a = 1107,7 pm, Z = 2, I43m) ist ein intermediäres Oxidationsprodukt der intermetallischen Phase NaIn. Sie wird im Hinblick auf die Frage, ob in ihr ein dem Zintl‐Klemm Konzept widersprechendes tetraedrisches Polykation [InIn4]6+oder ein mit diesem Konzept im Einklang stehendes [InIn4]7+vorliegt, erneut untersucht. Dazu wird Na24In5O15, das im zweiten Falle die Zusammensetzung Na23In5O15haben sollte, erstmals röntgenographisch phasenrein hergestellt und die Strukturparameter mit Hilfe des Rietveldverfahrens auf der Basis der Pulverdaten verfeinert. Darüber hinaus werden eigene Einkristalldaten mit den für Na24In5O15publizierten Werten verglichen und auf Anomalien in den Besetzungsfaktoren von Na+sowie der thermischen Auslenkungsparameter für O1 hingewiesen. Diese Untersuchungen zusammen mit Befunden der analytischen Rasterelektronenmikroskopie sowie Ergebnissen von Extended Hückel – und MAPLE – Rechnungen sprechen für das Vorliegen von [InIn4]7+und damit für die Zusammensetzung Na23In5O15.