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The diffusion of antimony in fine-grained and coarse-grained polycrystalline silicon is studied in the temperature range from 930 to 1150 °C. The radioisotope 125Sb is used to measure concentration-depth profiles with the sectioning technique. Autoradiography is used for making the lateral distribution of the radioactivity over the sample surface visible and for quantitative analysis of the activity-depth profile of distinct grains in the coarse-grained samples. An important role is played by dislocation formation during the diffusion anneal. Die Diffusion des Antimons im feinkornigen und grobkornigen polykristallinen Silizium wird im Temperaturbereich von 930 bis 1150 °C untersucht. Das Radioisotop 125Sb wird in der “sectioning”-Technik fur die Bestimmung der Tiefenprofile der Aktivitat verwendet. Autoradiographie wird benutzt zur Sichtbarmachung der Verteilung von Radioaktivitat uber die Oberflache und fur die quantitative Analyse des Tiefenprofils von bestimmten Kornen in grobkornigen Proben. Die Entstehung von Versetzungen wahrend der Diffusionsheizung spielt eine wichtige Rolle.

A simple method is presented for obtaining an expression for the diffusion coefficient in a binary compound. Six cubic structures in which intermetallic compounds crystallize are treated as examples. Une methode simple est presentee pour obtenir une expression pour le coefficient de diffusion dans des composes binaires. Six structures cubique dans lesquelles des composes intermetallique se cristallisent sont traites et pris comme example.