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Mit der Entwicklung eines neuen Sensorsystems nach dem chromatisch konfokalen Prinzip erweitern sich die Anwendungsmöglichkeiten für Nano-Koordinatenmessmaschinen [8]. Unter Verwendung der im Institut für Prozessmess- und Sensortechnik (IPMS) der Technischen Universität Ilmenau entwickelten Nanopositionier- und Nanomessmaschinen (NPMM) stehen ausgedehnte und präzise adressier- und positionierbare Mess- und Arbeitsvolumina zur Verfügung [9]. Beschrieben wird die Integration des neuen Sensors in die NPMM, sowie die Erweiterung des Systems um einen Lithografielaser für maskenloses direktes Laserschreiben (engl. Direct-Laser-Writing (DLW)) [16]. Die messtechnischen Eigenschaften des Sensors werden vorgestellt und seine Anwendungsmöglichkeit in lithografischen Strukturierungsprozessen erweitert. Der Sensor wird genutzt, um den Bearbeitungslaser im Bereich seiner Tiefenschärfe konsequent auf die Probenoberfläche zu fokussieren. Dadurch werden Strukturbreiten minimiert [17]. By developing a new sensor system based on the chromatic confocal principle, the application potential for nano-coordinate measuring machines has expanded [8]. Using the Nanopositioning and Nanomeasuring Machines (NPMM) developed at the Institute for Process Measurement and Sensor Technology (IPMS) at Technische Universität Ilmenau, large and precisely addressable and positionable measuring and working volumes are available [9]. The integration of the new sensor into the NPMM and the extension of the system by a lithography laser for maskless Direct-Laser-Writing (DLW) are described [16]. The metrological properties of the sensor are presented and its possible applications in lithographic structuring processes are discussed. The sensor is used to focus the processing laser consistently on the sample surface in the area of its depth of field. This leads to a decrease in the structure widths [17]. [ABSTRACT FROM AUTHOR]