1. Stabilité thermique des performances spectrales de miroirs EUV
- Author
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Franck Delmotte, Françoise Varniere, Christophe Hecquet, Marie-Françoise Ravet-Krill, Evgueni Meltchakov, Marc Roulliay, Andre Rinchet, Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique / Scop, Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique (LCFIO), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut d'Optique Graduate School (IOGS)-Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut d'Optique Graduate School (IOGS)-Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11), Laboratoire d'interaction du rayonnement X avec la matière (LIXAM), Université Paris-Sud - Paris 11 (UP11)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), and SAGEM Défense Sécurité [Massy]
- Subjects
[PHYS.PHYS.PHYS-OPTICS]Physics [physics]/Physics [physics]/Optics [physics.optics] ,ComputingMethodologies_GENERAL ,ComputingMilieux_MISCELLANEOUS - Abstract
Resume. Le developpement de miroirs EUV resistant a des temperatures elevees represente un enjeu important pour la lithographie EUV. Nous avons optimise et depose plusieurs empilements multicouches Mo/SiC/Si/SiC en faisant varier les epaisseurs respectives de SiC aux deux interfaces. Ces differents types d’empilements ont ensuite subi une serie de recuits thermiques pour evaluer l’influence des deux parametres temps et temperature de recuit, sur les performances spectrales. Des structures stables apres un recuit de 200 h a 400 ◦C ont ete optimisees et caracterisees.
- Published
- 2009
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