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Os materiais à base de tungstênio têm despertado interesse nos últimos anos devido às suas propriedades únicas e à possibilidade de utilização em uma ampla gama de aplicações. Em vista disso, neste trabalho, foi realizada uma revisão sistemática da literatura (RSL) acerca de filmes produzidos com compostos de tungstênio como material base. Foram analisados os métodos de deposição empregados na confecção dos filmes bem como as propriedades elétricas, dielétricas e optoeletrônicas estudadas nos trabalhos analisados, as principais aplicações estudadas e/ou sugeridas, composição do filme, entre outros aspectos. As buscas foram realizadas nas plataformas: Periódicos CAPES, Science Direct, Scopus e Google Acadêmico. Os critérios de análise, seleção e exclusão de trabalhos foram definidos de acordo com a estratégia PICO – População, Intervenção, Comparação e Resultados (outcomes). Na primeira etapa da busca, foram encontrados 187 artigos, dos quais 36 foram selecionados para leitura integral após a aplicação dos referidos critérios. O método de produção mais utilizado foi o Sputtering, seguido dos de Deposição de Vapor Químico (DVQ), Sol-gel e Tape Casting. As principais propriedades estudadas nos trabalhos foram a resistividade elétrica e a curva IV. Quanto à composição, o trióxido de tungstênio foi o composto mais investigado nos trabalhos sobre confecção dos filmes. A aplicação mais indicada foi em dispositivos eletrocrômicos, como películas para janelas inteligentes, displays e outras aplicações optoeletrônicas. Também foram indicadas aplicações como supercapacitores, células solares, sensores, armazenamento de energia e fotodetectores. Com base nos artigos analisados, é possível afirmar que filmes de tungstênio possuem propriedades interessantes para diferentes aplicações, sendo um material versátil e com potencial para mais investigações.

Os filmes finos de silício foram depositados pela técnica de RF magnetron sputtering, em potência elétrica variando de 300 W a 400 W e tempos de processamento de 40 minutos a 90 minutos, para a temperatura intrínseca ao processo de 100 oC, para estudar a possível substituição do filme de silício policristalino depositado pela técnica de deposição química em baixa pressão por meio de vapor/gás utilizado na fabricação de transistor MOSFET. Os filmes de silício foram submetidos à etapa de difusão de dopantes tipo n (fósforo) na temperatura de 1150 oC e 60 minutos em ambiente de nitrogênio. A difração de raios X e espectroscopia Raman foram técnicas utilizadas para acompanhar as variações cristalográficas dos filmes de silício. Nas condições de deposição, todos os filmes apresentaram-se amorfos. Por meio dos difratogramas, pode-se calcular o tamanho médio dos grãos, cujos valores ficaram entre 13 nm e 25 nm e que esses grãos estão distribuídos em uma matriz amorfa. Microscopia de força atômica indicou que os filmes amorfos depositados e os filmes submetidos a etapa de difusão de dopantes apresentaram baixo nível de rugosidade. Para se determinar a resistência de folha dos filmes de silício, antes e após a difusão de dopantes, utilizou-se a técnica de Quatro Pontas, cujos valores mostraram uma dependência direta entre o aumento da condução elétrica com o aumento do tamanho médio dos grãos.

Aqui abordamos o efeito Magnetoimpedância e demonstramos que este pode nos auxiliar no estudo da dinâmica da magnetização em sistemas nanoestruturados. Especificamente, exploramos uma forma acessível, mas robusta, de calcular o fenômeno da Magnetoimpedância em sistemas na forma de filmes finos. Para verificar a robustez de nossa abordagem teórica, produzimos um filme fino ferromagnético de Ni81Fe19, uma liga amplamente conhecida na comunidade de magnetismo, e realizamos sua caracterização magnética quase-estática e dinâmica. Nosso resultados, além de mostrar a concordância entre teoria e experimento, trazem uma forma simples para descrever sistema ferromagnéticos e suas interações com campos magnético estáticos e alternados, simultaneamente. Através da investigação das propriedades magnéticos de diferentes sistemas podemos produzir uma ampla gama de dispositivos sensores para diferentes aplicações tecnológicas.

A caracterização óptica de materiais é fundamental tanto para a pesquisa básica quanto aplicada. Novas metodologias de análise, mais práticas ou com maior precisão e/ou amplitude de utilização, são de grande importância para a área. Este artigo apresenta um novo método que permite obter a espessura e propriedades ópticas em toda a faixa UV-Vis de filmes finos. Diferente dos métodos atuais baseados no envelope de Manifacier, este se baseia na equação exata para a transmitância de filmes sobre substrato finito. Foram analisados espectros de transmitância gerados teoricamente e obtidos experimentalmente para filmes de AlN e TiOxNy depositados por sputtering. Os resultados foram comparados aos do método do envelope e/ou elipsometria. Nos casos aplicáveis, os resultados foram similares, mas os avanços desta nova abordagem são claros, permitindo: (i) análise óptica de filmes sem limite mínimo de espessura, (ii) caracterização óptica na região de alta absorção do espectro, e (iii) modelos para filmes não homogêneos com nanopartículas dispersas. O método proposto é mais versátil e aplicável que o do envelope.

O desempenho óptico de qualquer material resulta da sua interação com uma radiação eletromagnética. Experimentalmente, através de medições de absorção óptica, é possível estimar o valor da energia fotoelétrica absorvida pelo material e obter indicações sobre o tipo de transição da banda. Neste trabalho é realizada a análise de deposições de filmes finos com 100% de argônio em substrato de vidro, depositados por magnetron sputtering, com tempos de deposição de trinta minutos e de uma hora. As constantes ópticas dos filmes foram medidas por medições de refletância óptica e transmitância. Esses valores, juntamente com micrografias obtidas no microscópio eletrônico de varredura (MEV), promovem a construção da curva que fornece a estimativa da energia de bandgap dos filmes. Os filmes finos de argônio com o tempo de deposição maior do que os outros (1 hora) são apresentados como mais condutores, devido à sua baixa energia de bandgap. Os resultados sugerem que 100% de filmes de argônio podem ter um potencial considerável para serem usados como eletrodos transparentes aplicados a células solares, desde que tenham sua resposta óptica otimizada por algum elemento dopante.

In this report, TiN nanocrystalline thin films were deposited on glass and Ti-6Al-4V substrates using a DC-magnetron sputtering technique. The TiN films were sputtered using a pure Ti target (99.9%) with 40W of power in Ar/N2 gas mixture atmosphere. The structure of the TiN films was characterized by X-Ray diffraction, as prepared films exhibited a (200) preferred orientation, while film annealed at 500 °C shows the (111), (200) and (311). Polycrystalline, cubic, (111)-orientated TiN films were produced by annealing temperature of 500 °C. The effect of deposited temperature on the microstructural morphologies of the thin films was studied by Field Emission Scanning Electron Microscope (FESEM). The particle size of the sputtered TiN films ranged from 50 to 70 nm and was strongly influenced by annealing temperatures, the morphology of the films deposited before and after annealing has a characteristic agglomeration of particles. Potentiodynamic polarization analysis of the TiN films confirms the inverse relationship between polarization resistance and corrosion current. The biocorrosion measurements for TiN films deposited on the Ti-6Al-4V substrate in 3.5% NaCl solution have also been obtained. Clear improvement in the corrosion resistance was observed rather than for untreated, especially for thermally annealed (500 oC) TiN/Ti-6Al-4V samples. The corrosion rate was 0.1458 mm/y for the uncoated sample, while 2.68510-4 mm/y for TiN/Ti-6Al-4V in samples after annealing. The average corrosion potential calculated was - 0.117 V. The results confirmed that coated alloys with 500 °C thermally treated exhibited a better electrochemical behavior compare with uncoated and non-thermally treated alloys possibly due to the better cohesion degree of the coatings. [ABSTRACT FROM AUTHOR]

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Resumo Este trabalho propõe um novo método de produção de filmes estáveis para aplicações em sensores baseado na deposição pela técnica de automontagem de poli(o-etoxianilina) alternada com fenol-formaldeído (POEA/PF) seguida por cura térmica. O processo de reticulação foi caracterizado por espectroscopias no infravermelho por transformada de Fourier e no ultravioleta-visível, microscopia de força atômica e estudos de dessorção; a capacidade sensorial destes filmes foi avaliada através de medidas em sensores. Os resultados mostram que a resina PF serviu como agente de cura e alternante formando uma rede semi-interpenetrante, por conseguinte, filmes mais estáveis foram produzidos. Embora tenha ocorrido uma diminuição da sensibilidade dos sensores com o reticulação, tais filmes são bastante estáveis e podem ser potencialmente usados em sensores, especialmente onde uma maior estabilidade se faz necessária.

In this work, GaSb thin films were prepared by DC magnetron sputtering method using Soda Lime-type glass and ITO (Indium tin oxide), as substrates. Annealing processes were carried out under high vacuum conditions to avoid the incorporation of oxygen (O) atoms present in the atmosphere. From X-ray diffraction (XRD) measurements it was possible to establish a Zinc-blende type structure and InO phases associated to the ITO substrate. The annealing processes showed a significant improvement in the crystallinity of the material being less amorphous when the annealing temperature (Tr) was 673 K. A value of the gap energy ranging from 0.75 to 0.85 eV was obtained in samples of GaSb when the Tr changed between 300 K and 673 K, respectively. Scanning Electron Microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM) measurements provided information on the surface morphology of the material. [ABSTRACT FROM AUTHOR]

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Incorporação de Ce3+ ou Ce4+ em filmes finos de SnO2 depositados via sol-gel-dip-coating aumenta drasticamente a resistividade elétrica. No primeiro caso, temos comportamento aceitador do dopante, levando a matriz à alta compensação de carga. Por outro lado, para Ce4+, verifica-se aumento na largura da região de depleção do contorno de grão, resultando em maior espalhamento de elétrons. Medidas de caracterização elétrica sob pressão ambiente levam à barreiras de potencial mais altas do que as medidas sob vácuo, devido a adsorção de oxigênio na superfície das partículas. A presença de Ce3+ aumenta a transmitância no infravermelho, o que significa menor quantidade de elétrons livres. Dados de XANES confirmam que o tratamento térmico a 550 ºC dos filmes, ainda que promova oxidação parcial para Ce4+, preserva uma quantidade significativa (em torno de 60%) no estado Ce3+. Espectroscopia Raman mostra a evolução dos modos de vibração intra-grãos de SnO2 com o aumento da temperatura de tratamento térmico.Incorporation of Ce3+ or Ce4+ in sol-gel dip-coating SnO2 thin films increases drastically its electrical resistivity. In the first case, it is due the acceptor-like nature of the doping ion, leading the matrix to high charge compensation. On the other hand, for Ce4+ doped samples, it is verified a broadening of the grain boundary depletion layer. Measurements under room pressure leads to higher intergrain potential barriers when compared to measurements carried out under vacuum conditions, due to oxygen adsorption at particles surface. The presence of Ce3+ increases the infrared transmittance, which means a lower free electron concentration. XANES data confirms that the thermal annealing at 550 ºC of thin films, although promotes oxidation to Ce4+, still keeps a significantly amount (about 60%) of ions in the oxidation state Ce3+. Raman spectroscopy data show the evolution of the SnO2 bulk vibration modes with increasing thermal annealing temperature.

Emission from Er-doped SnO2 thin film deposited via sol-gel by the dip coating technique is obtained in the range 500-700 nm with peak at 530 nm (green). Electron-hole generation in the tin dioxide matrix is used to promote the rare-earth ion excitation. Evaluation of crystallite dimensions through X-ray diffraction results leads to nanoscopic size, what could play a relevant role in the emission spectra. The electron-hole mechanism is also responsible for the excitation of the transition in the 1540 nm range in powders obtained from the same precursor solution of films. The thin film matrix presents a very useful shape for technological application, since it allows integration in optical devices and the application of electric fields to operate electroluminescent devices.Foi obtida emissão de filmes finos de SnO2 dopados com Er no intervalo 500-700 nm, com pico em 530 nm (verde). Esses filmes foram depositados pela técnica de molhamento via sol-gel. A geração de pares elétron-buraco na matriz de SnO2 é usada para promover a excitação do íon terra-rara. A avaliação do tamanho dos cristalitos por meio de resultados de difração de raios X indica dimensões nanoscópicas, o que pode ser relevante para a interpretação do espectro de emissão. O mecanismo de excitação elétron-buraco é também responsável pela excitação da transição no intervalo que inclui 1540 nm em pós obtidos da mesma solução precursora dos filmes. Filmes finos constituem um formato muito útil para aplicações tecnológicas, desde que permite integração em dispositivos ópticos e a aplicação de campos elétricos para operar dispositivos eletroluminescentes.

O uso de microondas no processamento e obtenção de materiais tem adquirido nos últimos anos crescente interesse por parte de diversas áreas do conhecimento como a química e a engenharia de materiais. Neste sentido, aparatos especialmente projetados têm começado a ser descritos na literatura como reatores e câmaras de processamento a microondas visando aplicação na pesquisa e na indústria. Em particular o uso de fornos de microondas domésticos em atividades científicas tem se mostrado de interesse dado uma série de novas aplicações, simplicidade e baixo custo. O presente trabalho reporta um dispositivo desenvolvido a partir de um forno de microondas doméstico, capaz de efetuar sínteses e processamentos de sólidos mesmo quando os materiais envolvidos não possuem susceptibilidade as microondas. O novo dispositivo tem sido utilizado com sucesso na síntese de óxidos metálicos e, em especial na sinterização e ordenamento de redes cristalinas de filmes finos.The use of microwaves in the processing and attainment of materials has acquired in the last years increasing interest on the part of diverse areas of the knowledge as the chemistry and the engineering of materials. In this direction, especially apparatuses have started to be described in literature as reactors and chambers of processing the microwaves aiming at application in the research and the industry. In particular the use of domestic ovens of microwaves in scientific activities it has if shown of it interests given a series of new applications, simplicity and low cost. The present work reports a device developed from an domestic microwave oven adapted, capable to effect syntheses and solid processing exactly when the involved materials do not possess susceptibility the microwaves. The new device has been used successfully in the metallic oxide synthesis and, in special in the sintering and order of crystalline lattice of thin films.

Filmes finos de LiNbO3 foram preparados pelo método dos precursores poliméricos e depositados por "spin coating" sobre substratos de safira (0001). Os filmes foram tratados em forno microondas doméstico a 400 ºC por 15 e 20 min. Um material com alta perda dielétrica (susceptor de SiC) foi usado para absorver energia das microondas e transformá-la em calor. Este calor foi transferido para o filme a fim de promover a sua cristalização. O susceptor foi posicionado acima do filme ou embaixo do substrato. Desta forma, a influência da direção do fluxo de calor na cristalização das amostras foi verificada. Os filmes foram caracterizados por difração de raios X, microscopia de força atômica e espectrofotometria (transmitância) na região UV-visível e o índice de refração foi determinado por elipsometria. O crescimento epitaxial foi observado para o filme com susceptor posicionado embaixo do substrato. Verificou-se que os grãos apresentaram crescimento aleatório quando o susceptor foi posicionado acima do filme. Os filmes apresentaram-se relativamente densos, homogêneos e lisos, com boas propriedades ópticas.LiNbO3 thin films were prepared using a polymeric precursor solution deposited by spin coating on (0001) sapphire substrate. Heat treatment of the films was carried out in a microwave oven at 400 ºC for 15 and 20 min. A SiC susceptor (material with high dielectric loss) was used to absorb microwave energy and transfer the heat to the film in order to promote crystallization. The susceptor was placed above the film or below the substrate. Thus, the influence of the heat flux direction on the sample crystallization was verified. The films were characterized by X-ray diffraction, atomic force microscopy and spectrophotometry (transmittance) in the UV-Visible region and the refractive index was determined with an ellipsometer. The epitaxial growth was observed for the film with the susceptor placed below the substrate. Random growth was verified when the susceptor was placed above the film. The films were relatively dense, homogeneous and smooth with good optical properties.

Filmes finos de quitosana (média massa molecular) foram produzidos a partir de soluções precursoras em diversas concentrações e caracterizados com respeito à estrutura e grau de absorção de água. Os filmes foram obtidos por adsorção sobre lâminas de vidro previamente funcionalizadas (técnica de automontagem). Análises por microscopia eletrônica de varredura e de força atômica revelaram espessuras fracamente relacionadas à concentração do polissacarídeo, com espessuras não superiores a 25-30 nm e caracterizados por estrutura de nano poros. A afinidade por água indica, por sua vez, forte dependência com um comportamento do tipo exponencial com a concentração de quitosana. Testes comparativos em solução tampão também foram realizados demonstrando comportamento diverso ao obtido com água.

Filmes finos de SrBi2Ta2O9 foram depositados em substratos de Pt/Ti/SiO2/Si e, pela primeira vez, sinterizados em forno microondas doméstico. Os padrões de difração de raios X mostraram que os filmes são policristalinos. O processamento por microondas permite utilizar baixa temperatura na síntese e obter filmes com boas propriedades elétricas. Ensaios de microscopia eletrônica de varredura (MEV) e de Força Atômica (MFA) revelam boa aderência entre filme e substrato, com microestrutura de superfície apresentando grãos finos e esféricos e rugosidade de 4,7 nm. A constante dielétrica e o fator de dissipação, para freqüência de 100 KHz, à temperatura ambiente, foram de 77 e 0,04, respectivamente. A polarização remanescente (2Pr) e o campo coercitivo (Ec) foram 1,04 miC/cm² e 33 kV/cm. O comportamento da densidade de corrente de fuga revela três mecanismos de condução: linear, ôhmico e outro mecanismo que pode ser atribuído à corrente de Schottky. Dos padrões de DRX, análises das imagens por MEV e topografia de superfície por MFA observa-se que 10 min de tratamento térmico a 550 ºC, em forno microondas, é tempo suficiente para se obter a cristalização do filme.SrBi2Ta2O9 thin films were deposited on Pt/Ti/SiO2/Si substrates and, for the first time, sintered in a domestic microwave oven. The X-ray diffraction patterns showed that the films are polycrystalline. The microwave processing allows to use a low temperature for the synthesis, obtaining films with good electrical properties. Scanning Electron Microscopy (SEM) and Atomic Force Microscopy (AFM) results reveal good adherence between film and substrate and a surface microstructure presenting thin and spherical grains and roughness of 4.7 nm. The dielectric constant and the dissipation factor, for a frequency of 100 KHz at room temperature, were 77 and 0.04, respectively. The remaining polarization (2Pr) and the coercive field (Ec) were 1.04 C/cm² and 33 kV/cm, respectively. The behavior of the drift current density reveals three electric conduction mechanisms: linear, ohmic and another mechanism that can be attributed to the Schottky current. From the XRD patterns, analyses of the SEM images and AFM surface topography it was noticed that 10 min of thermal treatment at 550 ºC, in a microwave oven, is enough time to obtain the crystallization of the films.

Filmes finos de niobato de estrôncio e bário (SBN) na composição 75/25 (Sr0,75Ba0,25Nb2O 6) foram depositados sobre substratos de Pt/Si usando-se um método químico baseado na obtenção de uma resina polimérica a partir de diferentes soluções de íons. Os filmes foram cristalizados em temperaturas entre 500 °C e 700 °C usando-se tratamentos térmicos convencionais de 1 hora e rápidos de 60 segundos. A presença da fase ferroelétrica do SBN foi confirmada somente em filmes cristalizados em temperaturas superiores a 600 °C, enquanto que para os filmes tratados termicamente a 500 °C verificou-se a presença de outras fases como o SrNb2O6 e BaNb2O6 que não são ferroelétricas. Os parâmetros de rede da estrutura tetragonal do SBN foram calculados com base nos difratogramas de raios X para diferentes condições de cristalização e os valores obtidos concordam bem com aqueles obtidos para filmes de SBN, reportados na literatura, preparados por outros métodos. Os parâmetros ferroelétricos foram obtidos usando-se um circuito Sawyer-Tower à temperatura ambiente na freqüência de 100 Hz. Para os filmes cristalizados a 700 °C os valores de polarização remanescente (Pr) e campo coercitivo (Ec) foram respectivamente 18 mC/cm² e 180 kV/cm para tratamentos térmicos convencionais e 17 mC/cm² e 235 kV/cm para tratamentos térmicos rápidos.

Este trabalho faz uma síntese de resultados obtidos para filmes finos de PZT processados por diferentes vias com objetivo de otimizar parâmetros estruturais, dielétricos e ferroelétricos. Filmes foram preparados em fornos convencionais e pelo método de tratamento térmico rápido (TTR). Os resultados foram comparados e mostraram que os filmes cristalizados usando TTR apresentaram uma melhor cristalização, comparado com os filmes cristalizados em forno convencional. Em conseqüência, melhores parâmetros dielétricos e ferroelétricos também foram obtidos, chegando a duplicar o valor da polarização remanescente (Pr) e aumentar significativamente a constante dielétrica (épsilon) dos filmes.

Filmes finos de PbTiO3 dopados com 27% de lantânio, depositados em substratros MgO (100), foram preparados pelo método dos precursores poliméricos (Pechini). As resinas, das quais são obtidos os filmes, ao término do processo apresentam pH entre 2-3. Este fato promove o aparecimento de cristais de citrato de Pb (favorecido pelo meio ácido). Para evitar tal problema, o pH da resina foi mantido entre 7-8 pela adição de hidróxido de amônio. O surgimento de regiões mais ricas em chumbo pode ser visto por intermédio de Microscópio Eletrônico de Varredura (MEV) e confirmada pela análise de EDS. A Microscopia de Força Atômica (MFA) também foi utilizada na observação da superfície dos filmes.

This paper presents a model for obtaining the optical constants of thin films semiconductors. It is possible when there are not interference fringes in the transmittance spectra. Optical constants as the absorption coefficient (α), refractive index (n), extinction coefficient (k) and other physical properties (Gap (Eg) and thickness (d)) were obtained for the Cu2ZnSnSe4 compound by deconvolution experimental spectra. Bhattacharyya model and basic elements of Swanepoel theory were used for analysis of transmittance measurements. The Model presented takes into account considerations of inhomogeneity in the film and surface roughness. Values for the optical constants obtained by the proposed model showed agreement with those obtained for samples from Swanepoel theory, when its implementation was possible. A variation of ± 6 % for thickness values, which were corroborated by performing profilometry measurements, was observed. [ABSTRACT FROM AUTHOR]

The article focuses on the study conducted to examine the resistively of the film deposited using sol-gel and oxidation state of Ce doping in SnO2 matrix. It mentions the sol-gel dip-coating SnO2 thin films increases its electrical resistively. Further it mentions XANES data shows that the thermal annealing of thin films.

The article presents a study which investigates the electrical resistivity of the thin film deposited through sol-gel and oxidation state of cerium (Ce) doping in SnO2 matrix. The study shows the high charge compensation of the matrix due to the acceptor-like nature of the doping ion. It notes the increased depletion layer of the grain boundary for the doped samples. It also cites the evolution of the bulk vibration modes of SnO2 with rising thermal annealing temperature.

Objetivo: Avaliar o efeito da cobertura com grafeno e óxido de titânio na topografia e rugosidade de superfície de aços inoxidáveis. Métodos: Discos de aço inox 304 (n4), foram polidos, limpos e recobertos com filmes de óxido de titânio (depositados pelo método sputtering DC/RF) ou recobertos por grafeno (filmes depositados quimicamente por vapor - CVD) em folhas de cobre e transferidos por via úmida para o aço. O grupo controle não recebeu cobertura. A caracterização das amostras foi realizada por microscopia de força atômica (Multimode 8, BRUKER, EUA), sendo realizadas 3 medidas para cada amostra e obtida uma média do espécime. Os dados de rugosidade foram submetidos à ANOVA 1 fator e teste de Tukey (a0,05). As amostras com filme de grafeno foram avaliadas por espectroscopia Raman para avaliar a qualidade e foi verificada homogeneidade dos recobrimentos. Resultado: A cobertura do aço 304 influenciou a rugosidade superficial (p<0,0001), sendo que grafeno (RMS2,08±0,06nm) apresentou rugosidade significativamente menor que óxido de titânio (RMS4,01±0,08nm) o grupo controle mostrou a maior rugosidade (RMS6,05±0,14nm). Conclusão: O recobrimento reduziu a rugosidade do aço 304, sendo que o filme de grafeno, mesmo sendo em única camada, possibilitou atenuação mais acentuada das irregularidades da superfície do aço inox 304. [ABSTRACT FROM AUTHOR]

Fotorresina positiva AZ-1518 é um exemplo de material fotossensível amplamente usado em processos litográficos em microeletrônica e em óptica para fabricação de componente de relevo. Esta fotorresina é formada pelo composto fotoativo (PAC) e de uma matriz, que é uma resina espessa denominada novolak. Quando exposta à radiação ultravioleta, reações químicas induzidas modificam as suas propriedades físicas e químicas. Filmes finos homogêneos desses materiais fotossensíveis foram preparados sobre substratos de vidro. Este trabalho tem como objetivo medir o índice de refração dos filmes, não expostos e expostos à radiação ultravioleta, utilizando o método Abelès. A partir das medidas das variações do índice de refração dos filmes fotossensíveis é possível obter a medida da taxa de decaimento do composto fotoativo (PAC) por unidade de intensidade. Medidas desta taxa fornecem indicações importantes da cinética química microscópica desses materiais fotossensíveis. Os resultados mostram que a precisão do método é suficiente para medir as variações do índice de refração desses tipos de materiais fotossensíveis.