Direct Laser Engraving (DLE) technology is the modern method of manufacturing intaglio printing plates. It has a rank of advantages and technological capabilities compared to traditional etching technology, however, the features of laser processing materials and the subsequent application of protective nitride-chromium coating by physical vacuum deposition (PVD) can cause a decrease in the plate run-length compared to traditional etching manufacturing technologies. So direct laser engraving technology with subsequent application of protective nitride-chrome PVD coating needs to be improved in engraving, plate processing for mold removal during and after DLE, and PVD process. In the analysis of the results of a complex investigation on various aspects of the formation of quality parameters of intaglio printing plates produced by the DLE + PVD method, a dominant hierarchy was formed by the AHP method, according to which it is possible to choose one of the variants for the technological process of manufacturing plates in the future. As a result of the problem decomposition, it was determined that alternative versions of the technological process should be optimized in the future, taking into account the actions of the actors — factors influencing the achievement of the global goal — high-quality intaglio printing plates. The latter is meaning the maximum number of prints of acceptable quality (clarity of stroke and tactility). Influence factors were identified and clustered: adjustment of DLE modes (laser engraving power, type of equipment differing in laser engraving wavelength); adjustment of stroke parameters (independent of those specified by the design — profile type, profile symmetry, angle of inclination of stroke walls, depth (within defined limits), the ratio of depth and width); adjustment of processing modes after DLE (chemical cleaning, or chemical and mechanical cleaning); adjustment of PVD pre-treatment modes (duration, intensity, and type of ion-plasma etching of the brass plate in the vacuum sputtering chamber before applying the protective coating); adjustment of PVD modes (thickness of the protective coating (sputtering time), the percentage composition of the Ar-N2 gas mixture in the sputtering chamber, composition (doping) of the chromium target, the temperature of the substrate (plate) during PVD). The importance of all factors and sub-factors has been established, allowing us to draw a conclusion regarding the priority areas of further research (improvement of DLE and PVD equipment) and measures within the design of forms., Сучасний спосіб виготовлення форм інтагліодруку — технологія прямого лазерного гравіювання (DLE — Direct Laser Engraving) має низку переваг та технологічних можливостей порівняно з традиційною технологією травлення, однак, особливості обробки матеріалів форм лазером та подальшого нанесення захисного нітрид-хромового покриття вакуумним напиленням (PVD) можуть викликати зниження тиражостійкості форм порівняно із традиційними технологіями виготовлення форм. Тому технологія прямого лазерного гравіювання з подальшим нанесенням захисного нітрид-хромового покриття PVD потребує удосконалення режимів гравіювання, оброблення форм після видалення напливів та PVD. На основі проведеного аналізу результатів комплексу досліджень з різних аспектів формування параметрів якості форм інтагліодруку, що виготовляються за методом DLE + PVD, за методом МАІ, сформовано домінантну ієрархію, за якою можливо в перспективі обрати один з варіантів технологічного процесу виготовлення форм. В результаті декомпозиції проблеми визначено, що альтернативні варіанти технологічного процесу в подальшому мають бути оптимізовані з урахуванням дій акторів — факторів впливу на досягнення глобальної мети — якісної форми інтагліодруку (такої, що забезпечує отримання максимальної кількості відбитків належної якості (чіткості і тактильності)). Визначено та кластеризовано фактори впливу: корегування режимів DLE (потужність випромінювання, вид обладнання, що відрізняється довжиною хвилі випромінювання); корегування параметрів штрихів (незалежних від заданих дизайном — вид профілю, симетричність профілю, кут нахилу стінок штриха, глибина (у визначених межах), співвідношення глибини і ширини); корегування режимів оброблення після DLE (хімічного очищення чи хімічного і механічного очищення); корегування режимів попереднього оброблення PVD (тривалість, інтенсивність та вид іонно-плазмового травлення латунної пластини у камері вакуумного напилення перед нанесенням захисного покриття); корегування режимів PVD (товщина захисного покриття (час напилення), відсотковий склад газової суміші Ar-N2 в камері напилення, склад (легування) хромової мішені, температура підкладки (форми) під час PVD). Встановлено вагомість усіх факторів та підфакторів, що дозволяє зробити висновок щодо пріоритетних напрямів подальших досліджень (удосконалення обладнання DLE та PVD), а також заходів в межах дизайну форм.