1. Polymers for High Technology
- Author
-
MURRAE J. BOWDEN, S. RICHARD TURNER, James H. O'Donnell, G. Arthur Salmon, J. K. Thomas, G. Beck, Adolphe Chapiro, Seiichi Tagawa, J. E. Guillet, Larry F. Thompson, Toshiaki Tamamura, Akinobu Tanaka, H. Shiraishi, N. Hayashi, T. Ueno, O. Suga, F. Murai, S. Nonogaki, Nigel R. Farrar, Geraint Owen, R. D. Allen, S. A. MacDonald, C. G. Willson, E. Reichmanis, A. E. Novembre, R. G. Tarascon, A. Shugard, A. S. Gozdz, C. Klausner, J. E. McGrath, S. Smith, J. M. J. Fréchet, E. Eichler, M. Stanciulescu, T. Iizawa, F. Bouchard, F. M. Houlihan, J. A. Jubinsky, R. J. Groele, F. Rodriguez, Y. M. N. Namasté, S. K. Obendorf, Michael P. C. Watts, Anders Hult, Otto Skolling, Sven Göthe, Ulla Mellström, R. D. Miller, D. Hofer, J. Rabolt, R. Sooriyakumaran, G. N. Fickes, J. Moore, S.-I. Uchino, T. Iwayanagi, H. Morishita, S.-I. Shirai, N. Moriuchi, K. D. Ahn, T. Nishida, M. Toriumi, James R. Sheats, John S. Hargreaves, R. C. Daly, T. DoMinh, R. A. Arcus, M. J. Hanrahan, J. N. Helbert, N. C. Saha, Samson A. Jenekhe, C. L. Bauer, R. J. Farris, Eric S. W. Kong, R. K. Watts, T. M., MURRAE J. BOWDEN, S. RICHARD TURNER, James H. O'Donnell, G. Arthur Salmon, J. K. Thomas, G. Beck, Adolphe Chapiro, Seiichi Tagawa, J. E. Guillet, Larry F. Thompson, Toshiaki Tamamura, Akinobu Tanaka, H. Shiraishi, N. Hayashi, T. Ueno, O. Suga, F. Murai, S. Nonogaki, Nigel R. Farrar, Geraint Owen, R. D. Allen, S. A. MacDonald, C. G. Willson, E. Reichmanis, A. E. Novembre, R. G. Tarascon, A. Shugard, A. S. Gozdz, C. Klausner, J. E. McGrath, S. Smith, J. M. J. Fréchet, E. Eichler, M. Stanciulescu, T. Iizawa, F. Bouchard, F. M. Houlihan, J. A. Jubinsky, R. J. Groele, F. Rodriguez, Y. M. N. Namasté, S. K. Obendorf, Michael P. C. Watts, Anders Hult, Otto Skolling, Sven Göthe, Ulla Mellström, R. D. Miller, D. Hofer, J. Rabolt, R. Sooriyakumaran, G. N. Fickes, J. Moore, S.-I. Uchino, T. Iwayanagi, H. Morishita, S.-I. Shirai, N. Moriuchi, K. D. Ahn, T. Nishida, M. Toriumi, James R. Sheats, John S. Hargreaves, R. C. Daly, T. DoMinh, R. A. Arcus, M. J. Hanrahan, J. N. Helbert, N. C. Saha, Samson A. Jenekhe, C. L. Bauer, R. J. Farris, Eric S. W. Kong, R. K. Watts, and T. M.
- Subjects
- Polymers--Congresses, Photoresists--Congresses, Microlithography--Materials--Congresses, Microelectronics--Materials--Congresses
- Published
- 1987